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日本限制韩国EUV工艺关键材料 三星电子领先地位

【TechWeb】近日,日韩贸易战愈演愈烈,日本发布氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、半导系统体例造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching Gas)三种材料出口到韩国时不再给予优惠报酬,而且每次出货时出口商都必须得到许可,拿到许可大年夜约必要90天光阴。日本方面对此立场十分强硬,有阐发人士指出,由日本独有市场的光罩基底(Mask Blank)也有可能成为下一个就义品,三星电子EUV工程可能是以受冲击。

据《韩联社》报道,日本可能增添的限制品项包孕集成电路(IC)、电源治理IC(PMIC)、光刻设备、离子注入机、晶圆、光罩基底等。值得留意的是,除EUV制程用的光刻胶没有其他替代品,日本企业在晶圆、光罩基底市场中,市占率异常高。日本的动向将直接影响到三星电子EUV工艺。

今朝,三星正处于和台积电的5nm工艺争霸的关键时候,这对三星电子来说无疑是一个重大年夜袭击。此前三星曾拿到了英伟达GPU7nm芯片的订单,近日英伟达又出来澄清说不是三星独家代工,而是同时应用三星及台积电两家的7nm工艺。

报道称,靠近三星的消息人士表示三星的部分钻研计划已经受到了影响,三星为了确保关键的光刻胶供应能够获得保障,现在不得不暂时弃置与EUV光刻工艺相关的芯片研发事情。

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